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2024年5月1日-28nm浸没式DUV光刻机是指使用28纳米工艺节点的浸没式深紫外光刻技术。它可以实现28纳米及以上的芯片制造。浸没式光刻技术通过在光刻过程中使用液体介质,可以提高分辨率和图案的精度。虽然目前已经有更先进的光刻技术
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2023年8月9日- 美博主：中国国产28nm DUV光刻机震惊世界！中国不再需要ASML了， 视频播放量 6704、弹幕量 1、点赞数 126、投硬币枚数 1、收藏人数 6、转发人数 0
2 0 2 3 nian 8 yue 9 ri - mei bo zhu ： zhong guo guo chan 2 8 n m D U V guang ke ji zhen jing shi jie ！ zhong guo bu zai xu yao A S M L le ， shi pin bo fang liang 6 7 0 4 、 dan mu liang 1 、 dian zan shu 1 2 6 、 tou ying bi mei shu 1 、 shou zang ren shu 6 、 zhuan fa ren shu 0 . . .
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2023年9月17日-中国光刻机能产几纳米？ 在科技日新月异的今天，光刻机作为集成电路制造的 总之，中国光刻机在28纳米制程方面已经取得了一定的成果，但要达到世界先
2023年9月4日- 当我们沉浸于28nm，阿斯麦的下一代光刻机已经来了 目标：1纳米，如何制造7纳米芯片：DUV光刻机与多重曝光，中芯国际和上海微电子公司宣布停止与
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2020年9月24日-国产28nm光刻机明年交付!每年可量产50台!
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2023年8月17日-其研发的28nm光刻机被誉为中国最先进的光刻机。这台光刻机的精度达到了28纳米，与国际先进水平相当。上海微电子的28nm光刻机采用了多项创新技术，
2020年7月26日- 28nm光刻机能做什么呢？很多人误以为28nm光刻机只能造28nm芯片，但是这是错误的，28nm光刻机14nm芯片，10nm芯片，甚至7nm芯片都可以造！
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2023年9月8日- 为什么28nm光刻机不能通过多曝工艺实现14nm，甚至7nm的光刻工艺？带着这样的问题，再经过中国半导体圈最热闹大群“爱生活，爱芯片，赚大钱”里
2022年8月12日- 最近，DUV光刻机的话题再度火热，“28nm光刻机”再度映入眼帘， 那么，DUV光刻机在现在有怎样的地位？ DUV光刻又是什么原理？ 其发展又经历了
2023年3月12日- 很多网友认为，有了“ 28纳米光刻机 ”，就可以通过双重曝光制造14纳米芯片，通过四重曝光可以制造7纳米芯片。这种说法正确吗？ 为了回答这个问题
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